ミニマルファブ紹介

ミニマルファブの概要

独立行政法人産業技術総合研究所によって開発されたミニマルファブ（[1]）は、0.5インチウェーハを使用し、マスク不要の直接描画を行い、わずか1個のLSIから少量生産を可能にします。量産にファブを使用する従来のシャトルサービスは試作期間が約3ヶ月かかるのに対し、ミニマルファブは最短3日間のLSI試作を目指しています。

ミニマルファブで半導体製造工程を担う装置は、幅294 mm×奥行き450 mm×高さ1440 mmの筐体に収納され、電源は100Vの家庭用電源を使用し、純水などの消費量も極めて少なく、クリーンルームが不要です。したがって工場の初期投資とランニングコストもミニマルですみます。図1は、ミニマルファブの製造工場を構成する製造装置を示します。

横河ミニマルアプリケーションラボでは、PMOSのみを使ったLSIとSOI CMOSの試作ができます。バルクCMOSやの準備も進んでいますが、PMOSのみのプロセスは大学など教育機関での試作に使われた実績があり、工程数が少ないため3.5日で製造できます。