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横河ラボで、製造に使えるプロセスは、産総研が開発したTechnology2013をベースにしたPMOS（ALゲート）のメタル2層プロセスと、Technology2018をベースにしたSOI CMOSプロセス（2層メタル、TiNゲート）です。
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横河ラボで、製造に使えるプロセスは、産総研が開発したTechnology2013をベースにしたPMOS（ALゲート）のメタル2層プロセスと、Technology2018をベースにしたSOI CMOSプロセス（2層メタル、TiNゲート）です。
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